반도체 장비 오염입자 저감 최소화..신소재 개발

한국재료연구원 박영조 박사 연구팀이
반도체 제조장비 내부의
오염입자 저감이 기대되는
내플라즈마성 세라믹 신소재를
국내 처음으로 개발했습니다.

이 신소재는
반도체 제조 때 플라즈마를 이용한 공정에서
실리콘 웨이퍼는 물론 장비 내부의 구성 부품도 플라즈마에 노출돼, 칩 불량이 나타나는 것을
최소화하는 역할을 합니다.